Plessey选择了AIX G5+ C MOCVD工具进行微led显示创新
光电技术解决方案开发商Plessey宣布，它已从全球半导体行业沉积设备供应商爱思强SE (AIXTRON SE)订购下一个反应堆。AIX G5+ C金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器将提高Plessey公司针对下一代微led应用的硅晶圆(GaN-on-Si)上氮化镓的制造能力。
新的爱思强反应堆将在2019年第一季度安装并投入使用。该反应堆位于英国普利茅斯，占地27万平方英尺。AIX G5+ C MOCVD系统有两个独立的腔设置选项，允许在封闭的盒式磁带环境中自动加载和从系统中删除8 x 6英寸或5 x 8英寸的GaN-on-Si晶圆。该系统将是该公司现有的金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应堆的补充，该反应堆也由爱思强(AIXTRON)提供，配置为7 x 6英寸或3 x 8英寸，具有手动加载功能。
新反应堆的自动自清洗技术进一步提高了生产效率，通过确保反应堆每次运行时都是干净的，大大减少了维护的停机时间，有助于降低晶圆片缺陷的发生率。新设备还提供了更快的斜坡和冷却以及高卸载温度，以减少配方时间。
AIX G5+ C反应器将支持Plessey的广泛生产路线图，以基于专有的GaN-on-Si技术提高其单片微led的研发能力。Plessey 's microLEDs产品提供极低的功耗、高亮度和超高像素密度，在使用传统显示技术(如LCD和OLED)的许多现有应用领域制造潜在的干扰。
这种复杂的设备将高密度的RGB像素阵列与高性能的CMOS底板相结合，为头戴式显示器和增强现实和虚拟现实系统提供高亮度、低功耗和高帧率的图像源，以及可穿戴电子设备。
爱思强欧洲公司副总裁Frank Schulte博士说:“我们相信AIX G5+ C将以最好的方式支持Plessey的需求，以满足微led生产的最严格的需求。”在提供更高效的配置的同时，该工具在均匀性和颗粒性方面满足了硅工业最苛刻的要求。
Plessey的首席运营官Mike Snaith解释道:“我们与爱思强的持续而宝贵的合作关系使Plessey可以迅速将其单片微型led推向市场。为了帮助我们实现这一目标，我们最近收购了AIX G5+ C行星系统，它以最低的拥有成本，将晶片上的均匀性和运行时的性能结合在了一起，这对于高效率的、硅上的甘恩微型led显示来说至关重要。
Plessey致力于解决微光led制造的所有挑战，包括高产量和高性价比的生产能力。Plessey正积极与潜在客户合作，使用其尖端的微光led生产技术平台。
